在超純水設(shè)備的運(yùn)行中，雖然edi模塊的進(jìn)水條件在很大程度上減少了模塊內(nèi)部阻塞的機(jī)會，但是隨著edi超純水設(shè)備運(yùn)行時(shí)間的延展，edi模塊內(nèi)部水道還是有可能產(chǎn)生阻塞，這主要是進(jìn)水中含有較多的溶質(zhì)。那么，怎么對edi模塊淡水室結(jié)垢進(jìn)行清洗呢？

1、記錄清洗前所有數(shù)據(jù)；

2、分離edi設(shè)備與其他純水設(shè)備的連接管路；

3、連接edi清洗裝置，使清洗泵通過進(jìn)水管路分別進(jìn)入edi模塊的淡水室和濃水室，再回到清洗水箱，開啟所有的進(jìn)出水閥門；

4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液；

5、酸洗步驟：啟動清洗泵，分別調(diào)節(jié)濃水、進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗；

6、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝；

7、沖洗步驟：向清洗水箱連續(xù)注入清洗（反滲透純水設(shè)備RO產(chǎn)水），啟動清洗泵連續(xù)清洗；

8、分別檢測淡水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直到與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近；

9、調(diào)節(jié)各個閥門，恢復(fù)原始各設(shè)計(jì)流量數(shù)據(jù)；

10、停機(jī)，恢復(fù)edi各個管路與其它系統(tǒng)的連接；

11、再生步驟：開啟PLC控制柜電源，向edi模塊送電，進(jìn)行再生，直至電阻率達(dá)到出水要求為止；

12、轉(zhuǎn)入正常運(yùn)行，并作好初次運(yùn)行的數(shù)據(jù)記錄。

    淡水室的清洗相對于濃水室來說，清洗過程沒有這么復(fù)雜，同時(shí)清洗的難度也沒有這么高。畢竟相對于濃水室來說，淡水室的結(jié)垢情況沒有遠(yuǎn)遠(yuǎn)沒有濃水室這么嚴(yán)重。